集成電路EDI超純水設備清洗污垢的方法，中天恒遠編輯李德馨認真總結整理了相關的知識，下面為大家詳細講解一下，希望對您有所啟發。
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集成電路EDI超純水設備清洗污垢的方法，小編聽取根據技術人員的介紹，認真整理總結了一下，為您詳細介紹
一，倒換電極
可以有效地減輕膜及陰極上的水垢，一般水垢沉積在濃水室陰極表面上，倒換電極后，濃水室、淡水室相應倒換造成水垢的不穩定狀態，因而可以減輕結垢。
二，酸洗
是消除沉淀的有效方法，水垢積到一定程度，就需要進行酸洗，酸洗一般采用循環酸洗，濃水，淡水和極水室一次酸洗的方法。
三，堿洗
酸洗不能取出有機沉淀物，對于這類污染層可以用堿性食鹽水清洗，使有機物消除，堿洗可以利用酸洗系統進行，一般不另設裝置。
四，定期拆洗
采用上述方法不能回復除鹽率時，應把EDI膜堆拆開清洗，重新組裝一般1-1.5年電滲析需要拆洗一次。
集成電路芯片EDI電除鹽系統采用的是比較流行的EDI膜塊制水工藝，比較終出水電阻率能夠達到18兆歐以上，與此同時，集成電路EDI電除鹽系統的出水中還不會含有任何的細菌以及微生物，所以使用該種電路芯片EDI電除鹽系統作為供水系統的企業的產品質量一定是符合標準的。
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